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等離子去膠機適用于硅基半導體及化合物半導體前后道的等離子體去膠設備，可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理，設計緊湊占地面積小，設備穩定可靠、易于維護、產能高。等離子去膠機使用的影響因素：(1)調整合適的頻率：頻率越高，氧氣越容易電離形成等離子體。如果頻率太高，使得電子的振幅比其平均自由程短，則電子與氣體分子碰撞的概率會......

等離子清洗機利用這些活性成分的特性對樣品表面進行處理，以達到清洗等目的，廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理，可以提高材料表面的潤濕能力，使多種材料可以進行涂層、電鍍等操作，增強附著力、結合力，同時去除有機污染物、油或油脂。等離子清洗機的工作原理：利用工作氣體在電磁場的......

聚對二甲苯涂層系統是通過化學氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結構的聚合物薄膜的統稱，它有極其優良的電性能、耐熱性、耐候性和化學穩定性。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備，可制成極薄的薄膜，主要用作薄膜和涂層，用于電子元器件的電絕緣介質、保護性涂料和包封材料等。聚對二甲苯涂層系統的特點：1、合規：即也適用于復雜的基材輪廓，......

賽默飛X射線衍射儀是廣泛使用的X射線衍射分析儀器。主要用于樣品相的定性或定量分析，晶體結構分析，材料結構宏觀應力測量，晶粒尺寸測量，結晶度測量等。根據實際需要，各種特殊功能附件以及相應的控制和計算機軟件構成具有特殊功能的衍射儀。賽默飛X射線衍射儀的基本原理：根據布拉格衍射原理，通過晶體對X射線的衍射，獲得樣品內部原子的......